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產品詳情
簡單介紹：
帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜，該帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀添加偏壓電場，增強離子的能量，提高成膜質量和薄膜的附著力
詳情介紹：
帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀
我公司研發的配有兩個靶位的小型實驗室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜等。磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優點，鍍膜速率高，樣品溫升低，是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層，水冷機能夠有效的帶走熱量，避免熱量在靶面聚集，使磁控鍍膜能長時間穩定工作。除此之外本設備還配有偏壓電源，能夠在靶材和樣品臺間添加偏壓電場，增強離子的能量，提高成膜質量和薄膜的附著力。整機均采用觸控屏控制，內置一鍵式鍍膜程序，操作簡單易上手，是一款實驗室制備薄膜的理想設備。
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名稱 |
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特點 |
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技術參數 |
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